2020-2025年中国三氟化氮行业发展前景预测及投资战略研究报告
三氟化氮
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2020-2025年中国三氟化氮行业发展前景预测及投资战略研究报告

发布时间:2019-12-12
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目前三氟化氮已成为大规模集成电路、平板显示、薄膜太阳能生产制造过程中必不可少的材料。2018年全球三氟化氮市场用量达到2.83万吨,预计到2021年全球三氟化氮市场需求量在4万吨左右。

2018-2021年全球三氟化氮需求量及增长

2018-2021年全球三氟化氮需求量及增长

本研究报告数据主要采用国家统计数据,海关总署,问卷调查数据,商务部采集数据等数据库。其中宏观经济数据主要来自国家统计局,部分行业统计数据主要来自国家统计局及市场调研数据,企业数据主要来自于国统计局规模企业统计数据库及证券交易所等,价格数据主要来自于各类市场监测数据库。

报告目录

第一章三氟化氮产品概述

1.1 电子特种气体——三氟化氮概述

1.2 三氟化氮的产业与市场简述

1.2.1 三氟化氮的应用领域

三氟化氮(NF3)作为含氟特种气体的一类,常温下具有化学惰性,高温下则比氧气更活泼、比氟更稳定,且易于处理。

一般来说,三氟化氮主要用作等离子蚀刻气体和反应腔清洗剂,适用于半导体芯片、平板显示器、光纤、光伏电池等制造领域。和其他含氟电子气体相比,三氟化氮具有反应快、效率高的优点,尤其在对氮化硅等含硅材质的蚀刻中,具有较高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,能够满足加工过程需求。

此外,三氟化氮可用作制备WF6的氟化剂,同时也可在火箭发射中作为氧化剂和推进剂使用。据统计,三氟化氮作为刻蚀剂和清洗剂的占比应用超过70%,而氟化剂、氧化剂、助燃剂的应用占比不足30%。

三氟化氮在不同领域中应用占比(单位:%)

三氟化氮在不同领域中应用占比(单位:%)

1.2.2 三氟化氮的市场简况

1.2.3 三氟化氮的产业简况

1.3 三氟化氮行业的特点

1.3.1 行业兴衰与半导体、光伏、液晶显示产业发展有着关系密切

1.3.2 三氟化氮产品优势得到发挥

1.3.3 市场垄断性强

1.3.4 近年全球三氟化氮应用市场在迅速扩大

1.4 在当前环境保护要求的形势变化下三氟化氮产品发展前景成为变数

1.4.1 三氟化氮成为气候变化新威胁UNFCC已将其列入“监管”气体之中

1.4.2 三氟化氮替代产品得到发展

第二章电子特种气体、氟化工品应用市场

2.1 电子特种气体概述

2.2 电子特种气体制造中的主要技术方面

2.3 电子特种气体的纯净度要求

2.4 电子特种气体产品市场竞争的焦点问题

2.4.1 对电子特种气体杂质、纯度要求的问题

2.4.2 气体配送及供应问题

2.4.3 储存、使用中的安全性问题

2.4.4 成本性问题

2.5 国内外电子特种气体行业发展概述

2.5.1 境外电子特种气体生产与市场状况分析

2.5.2 国内电子特种气体行业及其发展

2.6 氟化工产业概述

2.6.1 氟化工产业中的重要产品

2.6.2 我国氟化工产业发展状况分析

第三章三氟化氮的主要特性

3.1 物理特性

3.2 毒性及危险性

3.3 反应性

3.4 相关的安全性

3.5 主要性能及标准

3.5.1 对纯度的一般质量指标要求

3.5.2 美国气体及化学产品公司的NF3的工业标准及产品不同等级标准要求

3.5.3 SEMI的三氟化氮标准

3.5.4 三氟化氮 我国国家标准(GB/T 21287-2011)

第四章三氟化氮的主要生产工艺方法

4.1 NF3的制备方法

4.1.1 概述

4.1.2 直接化合法

4.1.3 氟和氟化氢铵法

4.1.5 电解法

4.2 NF3粗品纯化工艺加工

4.2.1 NF3粗品纯化工艺法的种类

4.2.2 低温精馏法

4.2.3 化学吸收法

4.2.4 化学转化法

4.2.5 选择吸附法

4.3 安全生产的问题

4.4 在半导体晶元工厂的供应系统

第五章三氟化氮的主要应用领域概述

5.1 概述

5.2 三氟化氮在集成电路中的应用

5.2.1 集成电路芯片制程

5.2.2 化学气相沉积和气体应用

5.3 作为清洗剂、刻蚀剂在半导体制造中的应用

5.3.1 替代PFC作为清洗剂

5.3.2 等离子增强化学气相沉积(PECVD)

5.3.3 在PECVD的干刻蚀、清洗加工中的应用

5.4 高纯NF3在薄膜硅太阳电池中的应用

5.4.1 (HJ 327)非晶硅薄膜太阳能电池

5.4.2 Si薄膜的材料特性

5.4.3 非晶硅薄膜太阳能电池制作工艺及高纯硅烷其应用

5.5 用三氟化氮作氟化剂

5.5.1 六氟化钨的理化性质及用途

5.5.2 NF3是制造WF6

5.5.3 世界WF6 的生产现况

5.5.4 国内生产WF6的状况分析

5.6 三氟化氮作为氟源在化学激光器中应用

5.7 NF3在IC和TFT-LCD应用市场扩展的三阶段

5.8 NF3在不同应用领域中应用量的比例

第六章世界及我国NF3的半导体市场调查与分析

6.1 世界半导体硅片生产与市场发展

6.1.1 世界半导体生产的现况

6.1.2 世界半导体硅片的生产情况分析

6.2 我国半导体晶圆生产与市场现况与发展

6.2.1 我国集成电路市场、产业发展现状调研

6.2.2 我国集成电路晶圆制造业状况分析

6.2.3 我国集成电路晶圆主要生产厂家状况分析

第七章世界及我国NF3的液晶显示器市场调查与分析

7.1 世界平板显示器产业发展现况

7.2 我国平板显示器产业现况与未来发展预测分析

7.2.1 我国液晶显示产业发展概述

7.2.2 我国LCD面板生产现况与未来几年发展预测分析

7.2.3 我国发展平板显示产业的相关政策及未来发展的预测、分析

第八章世界及我国NF3的薄膜硅太阳电池市场调查与分析

8.1 国内外光伏产业的发展

8.1.1 世界光伏产业的快速发展

8.1.2 我国光伏产业发展环境与现况

8.2 薄膜太阳能电池的生产与市场

8.2.1 薄膜太阳能电池特点及品种

8.2.2 薄膜太阳能电池未来市场发展前景

8.2.3 薄膜太阳能电池生产及在光伏市场上的份额变化

8.3 国内外薄膜太阳能电池的主要生产企业

8.3.1 境外薄膜太阳能电池生产厂家概况

8.3.2 国内薄膜太阳能电池生产厂家概况

第九章世界NF3的生产现状与发展

9.1 概述

9.2 世界三氟化氮生产现况

9.3 美国的NF3生产现状与厂家

9.3.1 美国AP公司

9.3.2 杜邦公司

9.4 日本的NF3生产现状与厂家

9.4.1 关东电化工业公司

9.4.2 三井化学公司

9.4.3 中央玻璃公司

9.5 韩国的NF3生产现状与厂家

9.5.1 AP公司韩国蔚山分厂

9.5.2 韩国SODIFF新素材有限公司

9.6 中国台湾的NF3生产现状与厂家

第十章我国国内NF3的生产现状与发展

10.1 国内NF3生产的发展(AK LX)

10.2 国内NF3生产需求市场

10.3 国内NF3的主要生产厂家

10.3.1 国内NF3的生产厂家概述

10.3.2 中核红华特种气体股份有限公司

10.3.3 湖北沙隆达天门农化有限责任公司

10.3.4 中国船舶重工集团第七一八研究所

10.3.5 其它厂家

10.4 国内与NF3气体相关的科研、协会机构

图表目录

图表 半导体制造业用特种气体按其使用时的特性分类状况分析

图表 全球半导体工业用主要几种高纯度气体的市场规模变化状况分析

图表 氟化工产业链的构成状况分析

图表 NF3分子结构图

图表 SEMI标准中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程图

图表 气-固反应器图

图表 气-液反应器图

图表 气-液反应法的生产流程图

图表 电解槽结构图

更多图表见正文……

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研究方法

报告研究基于研究团队收集的大量一手和二手信息,使用桌面研究与定量调查、定性分析相结合的方式,全面客观的剖析当前行业发展的总体市场容量、产业链、竞争格局、进出口、经营特性、盈利能力和商业模式等。科学使用SCP模型、SWOT、PEST、回归分析、SPACE矩阵等研究模型与方法综合分析行业市场环境、产业政策、竞争格局、技术革新、市场风险、行业壁垒、机遇以及挑战等相关因素。根据各行业的发展轨迹及实践经验,对行业未来的发展趋势做出客观预判,助力企业商业决策。

数据来源

本公司数据来源主要是一手资料和二手资料相结合,本司建立了严格的数据清洗、加工和分析的内控体系,分析师采集信息后,严格按照公司评估方法论和信息规范的要求,并结合自身专业经验,对所获取的信息进行整理、筛选,最终通过综合统计、分析测算获得相关产业研究成果。

一手资料来源于我司调研部门对行业内重点企业访谈获取的一手信息数据,采访对象涉及企业CEO、营销总监、高管、技术负责人、行业专家、产业链上下游企业、分销商、代理商、经销商、相关投资机构等。市场调研部分的一手信息来源为需要研究的对象终端消费群体。

二手资料来源主要包括全球范围相关行业新闻、公司年报、非盈利性组织、行业协会、政府机构、海关数据及第三方数据库等,根据具体行业,应用的二手信息来源具有一定的差异。二手信息渠道涉及SEC、公司年报、国家统计局、中国海关、WIND数据库、CEIC数据库、国研网、BvD ORBIS ASIA PACIFIC数据库、皮书数据库及中经专网、国家知识产权局等。

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