半导体清洗设备
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2020年全球半导体清洗设备发展现状、竞争格局及中国企业发展进展分析，行业集中度较高，国产化进程达到20%「图」
据统计，2018年全球半导体清洗设备市场规模为34.26亿美元，2019年和2020年受全球半导体行业景气度下行的影响，有所下降，分别为30.52亿美元和25.44亿美元，预计2021年随着全球半导体行业复苏。
华经观点
2022-02-04
2020年全球半导体清洗设备市场规模分析，竞争格局较为集中「图」
根据数据显示，2019年全球半导体清洗设备市场规模达32.8亿美元，同比增长5.81%，估计2020年约为36.1亿美元。
华经观点
2021-08-24
2020年我国半导体清洗设备行业现状，国产化道路依旧道阻且长「图」
根据清洗介质不同，半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线，湿法即采用特定化学药液和去离子水，对晶圆表面进行无损伤清洗，而干法则主要包括等离子清洗、超临界气相清洗、束流清洗等。
华经观点
2020-12-10
2018年中国半导体清洗设备投资总额及发展前景展望，湿法清洗机国产化率将不断提高「图」
2018年全球前道单片式清洗设备销售额达22.69亿美元，同比2017年增长了24.5%，随着中国半导体产业的迅速发展，国内清洗设备的需求迅速增长，2014-2018年中国半导体清洗设备投资总额从23.6亿元增长至70.3亿元。随着中国半导体产业的迅速发展，及本土厂商技术研发的进步，未来我国湿法清洗机国产化率将不断提高。
华经观点
2019-10-15
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