光刻胶

2017年中国光刻胶行业发展概况分析

光刻胶是光刻工艺得以实现选择性腐蚀的关键材料。光刻胶具有光化学敏感性，在紫外光、深紫外光、电子束、离子束、Ｘ射线等光照或辐射后，其溶解度会发生变化，从而将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，然后进行蚀刻等工艺加工，主要应用于微电子领域精细线路图形加工，如集成电路、半导体分立器件、LCD 器件的制造。

2017年中国光刻胶市场规模分析及行业上、下游关联性分析

光刻胶是由光引发剂、树脂以及各类添加剂等化学品组成的对光敏感的感光性材料，主要应用于印制线路板、集成电路、半导体封装、平板显示器等领域，涉及建筑、汽车、电子电器、航空航天、国防、医药医疗等行业，具有广阔的市场应用前景。