一、空白掩膜版产业概述
空白掩膜版是微电子制造光刻工艺上游核心原材料，也被称作光罩基板，是制作光掩膜版的母材，由精密抛光的高纯度基板与纳米级遮光膜、光阻层等功能薄膜复合而成，无任何电路图形。其经曝光、刻蚀等工艺可加工为带特定图案的光掩膜版，基板平整度、膜层均匀性等指标，直接决定光刻图形转移精度，影响半导体、平板显示等终端产品的制程良率与性能。
二、空白掩膜版行业发展相关政策
我国空白掩膜版行业政策支持体系持续完善，从国家战略到专项扶持层层发力。《中国制造2025》《国家集成电路产业发展推进纲要》等明确技术攻关方向，02专项投入超12亿元攻克核心技术。《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策》提供多维度扶持，“十四五”规划设定国产化率目标，带动社会资本投入超50亿元。
相关报告：华经产业研究院发布的《2026-2032年中国空白掩膜版行业市场需求监测及投资风险评估报告》
三、空白掩膜版行业产业链
空白掩膜版产业链上游以高纯石英基板、遮光膜材料等核心原材料和精密设备制造为主，美日韩企业垄断核心资源；中游为空白掩膜版制造，是技术壁垒最高的核心环节，全球市场高度集中；下游涵盖光掩膜版加工、半导体晶圆制造、平板显示等产业，需求持续增长。
四、全球空白掩膜版行业现状分析
2024年全球空白掩膜版行业市场规模达171亿元，这一规模依托半导体、平板显示等下游领域的旺盛需求支撑，叠加先进制程升级推动产品量价齐升实现稳步增长。当前行业受上游高纯石英原料涨价、核心资源被美日韩企业垄断影响，供需格局偏紧，国际龙头已开启提价动作。
五、中国空白掩膜版行业现状分析
2024年中国空白掩膜版行业市场规模达29亿元，依托半导体晶圆厂扩产、新型显示技术落地的双重需求拉动实现稳步增长，约占全球市场份额的17%。当前市场呈“成熟制程突围、高端受制于人”格局，本土企业已实现90nm及以上成熟制程规模化供应，但65nm以下先进制程国产化率不足15%，EUV级产品完全依赖进口。
六、空白掩膜版行业竞争格局
全球空白掩膜版市场呈日韩寡头垄断格局，HOYA、信越化学、AGC三家日企垄断EUV与高端DUV市场，技术壁垒高，定价权强。韩国S&S Tech、SK Enpulse等依托本土半导体产业与三星、SK海力士深度绑定。国内聚和材料通过收购切入28-130nm制程，龙图光罩等在成熟制程突破，国产替代加速但高端领域仍依赖进口，政策扶持下国内企业正逐步缩小技术差距，抢占市场份额。
七、空白掩膜版行业未来发展趋势
国内空白掩膜版行业在政策扶持与企业布局下，国产替代进入实质性落地阶段，高端市场打破日韩企业的绝对垄断。此前国内高端空白掩膜版国产化率近乎为0，仅能实现90nm及以上成熟制程的量产，而聚和材料通过收购韩国SKEnpulse，成为国内唯一能量产28nm-130nm制程产品的企业，其掌握的ArF、KrF级涂覆工艺较国内原有技术领先4-5年，还填补了相移掩模版技术的国内空白。同时龙图光罩等企业加速28nm制程研发，2026年新厂投产后将进一步提升成熟制程产能。国家大基金二期重点支持该领域“卡脖子”技术攻关，叠加国内晶圆厂的国产采购需求，预计2030年国内中高端产品国产化率将大幅提升，逐步实现从成熟制程到先进制程的替代进阶。
华经产业研究院通过对中国空白掩膜版行业海量数据的搜集、整理、加工，全面剖析行业总体市场容量、竞争格局、市场供需现状及行业典型企业的产销运营分析，并根据行业发展轨迹及影响因素，对行业未来的发展趋势进行预测。帮助企业了解行业当前发展动向，把握市场机会，做出正确投资决策。更多详细内容，请关注华经产业研究院出版的《2026-2032年中国空白掩膜版行业市场需求监测及投资风险评估报告》。
